인피니티시마의 Metron3D 장비 설치 모습
인피니티시마(Infinitesima)는 ASML을 비롯한 파트너사들과 함께 3년에 걸친 공동 개발 프로젝트에 착수한다고 발표했다.
이번 프로젝트에서 Metron3D 300mm 인라인 웨이퍼 계측 시스템은 하이브리드 본딩, 고개구율(high-NA) EUV 리소그래피, 그리고 상보성 전계효과 트랜지스터(complementary field-effect transistor, CFET)와 같은 차세대 3D 로직 반도체 구조 등 첨단 애플리케이션을 위한 계측 솔루션을 최적화하고 탐색하는 데 활용될 예정이다. 이 프로젝트는 인피니티시마의 RPM™(Rapid Probe Microscope) 기술과 각 파트너사의 전문 역량을 결합해 고속 이미징, 간섭계 수준의 정밀도, 그리고 깊이 있는 3차원(3D) 표면 분석을 가능하게 할 것이다. 이를 통해 관련 업계가 고속, 대량 생산 환경에서도 소자 전 구조에 걸쳐 정밀한 3D 계측 데이터를 확보해야 하는 시급한 요구에 대응할 수 있을 것으로 기대된다.
이번 프로젝트의 일환으로 인피니티시마는 나노일렉트로닉스 및 디지털 기술 분야의 세계적인 연구·혁신 허브인 imec에 장비를 설치할 예정이다. 이렇게 설치된 시스템은 ASML을 포함한 파트너사들이 차세대 디바이스 개발을 가속화하고, high-NA EUV 레지스트의 이미징 특성 분석 및 기술 개발을 지속하는 데 활용된다. 인피니티시마는 imec과의 긴밀한 협력을 통해 새로운 장비 기능을 개발 및 향상해 나갈 계획이다. 이번 협력은 미래형 반도체 디바이스 제조를 위한 핵심 기술인 진정한 3D 공정 제어 구현을 목표로 하고 있다.
인피니티시마와 imec의 파트너십은 인피니티시마의 특허 받은 RPM™ 기술을 활용한 팁 유도 나노스케일 단층 촬영 감지 기능의 연구 및 고장 분석 분야에 대한 적용 프로젝트로 2021년에 처음 시작됐다. 이번에 새롭게 시작한 협력은 인피니티시마와 imec 간 파트너십을 고속 인라인 생산 계측 분야로 확장하는 것으로, 나노미터 이하 수준의 특성과 점점 더 복잡해지는 3D 구조에 대한 반도체 업계의 정밀 검사 및 계측 요구에 대응하기 위한 것이다.
인피니티시마의 피터 젠킨스(Perter Jenkins) 회장 겸 CEO는 “imec과의 기존 협력을 확장해, 차세대 반도체 공정의 핵심 단계에서 직면하는 중요한 계측 과제들을 지원하게 돼 매우 기쁘다”고 밝혔다.
이번 파트너십 확장을 통해, 인피니티시마는 인라인 반도체 계측 분야에서의 선도적 입지를 더욱 강화하고, 점점 더 미세화되고 복잡해지는 디바이스 아키텍처로 나아가는 반도체 업계의 진화를 뒷받침할 예정이다.
※ 1나노미터(nm)는 10⁻⁹ 미터이며, 실리콘 원자 1개의 지름은 약 0.2nm 이하이다.
영국에 기반을 둔 인피니티시마(Infinitesima Limited)는 반도체 산업을 위한 첨단 계측 솔루션 분야 선도 기업이다. 이 회사는 원자력 현미경(AFM)의 3차원 표면 탐지 기능, 고속 레이저 활성화, 간섭계의 정확성을 결합한 혁신적인 기술인 RPM™(Rapid Probe Microscope)을 개발했으며, 이는 광범위한 특허 포트폴리오에 의해 보호되고 있다. 반도체 제조회사들은 현재의 광학 및 전자빔 기술로는 해결할 수 없는 차세대 공정 제어를 위해 더 높은 분해능의 3D 계측 솔루션을 점점 더 필요로 하고 있다. 인피니티시마는 인라인 서브 나노미터 3D 공정 제어에 대한 고객의 증가하는 수요를 충족시키기 위해 자사의 특허 기술인 RPM™을 적용한 고속 계측 시스템 Metron®3D를 출시했다. 보다 자세한 정보는 웹사이트에서 확인할 수 있다.

uapple
기자
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